本發(fā)明提供一種記憶合金基納米層狀
復(fù)合材料及其制備方法。所述記憶合金基納米層狀復(fù)合材料,以體積分?jǐn)?shù)為20~80%的X金屬作為增強(qiáng)相,NiTi形狀記憶合金作為基體;NiTi形狀記憶合金與增強(qiáng)相的金屬以片層狀交替排列,形成層狀復(fù)合材料,所述增強(qiáng)相的片層厚度達(dá)到微納米尺度,X金屬為Nb、Cu、Ta、Ni、Mo、W中的一種。本發(fā)明采用納米層狀復(fù)合材料形式,以NiTi形狀記憶合金作為基體,制備了記憶合金基納米層狀復(fù)合材料。得益于納米增強(qiáng)相和NiTi形狀記憶合金基體的大彈性應(yīng)變,以及納米層狀材料本身具有的包括可以實(shí)現(xiàn)大塊體形式等諸多優(yōu)勢,該記憶合金基納米層狀復(fù)合材料有望在大塊體材料中可控地實(shí)現(xiàn)高強(qiáng)度和高韌性。
聲明:
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