本發(fā)明公開了一種
石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學(xué)
復(fù)合材料的制備方法,屬于非線性光學(xué)材料的制備領(lǐng)域。該制備方法包括以下步驟:將二氯乙酰氯改性石墨烯和3??;量┰谒嵝詶l件下混合后,再加入4?烷氧基苯甲醛,反應(yīng)得到石墨烯/聚吡咯甲烷復(fù)合材料;再對制備的石墨烯/聚吡咯甲烷復(fù)合材料進(jìn)行醌化處理,制得所述石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學(xué)復(fù)合材料。本發(fā)明制備的石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學(xué)復(fù)合材料不僅能夠均勻地分散在二氯甲烷、氯仿、甲苯等低沸點(diǎn)溶劑中,成膜性優(yōu)良,而且具有較窄的光學(xué)帶隙和較大的三階非線性光學(xué)極化率,在光調(diào)制器、變頻器和全光開關(guān)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
聲明:
“石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學(xué)復(fù)合材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)