本發(fā)明提供一種低介電常數(shù)POSS/聚氨酯
復(fù)合材料薄膜及其制備方法,屬于高分子材料技術(shù)領(lǐng)域。該復(fù)合材料是由具有式Ⅰ結(jié)構(gòu)的POSS和具有式Ⅱ結(jié)構(gòu)的聚氨酯組成。本發(fā)明還提供一種低介電常數(shù)POSS/聚氨酯復(fù)合材料薄膜的制備方法。該方法先將八苯基POSS溶于溶劑中,得到八苯胺基POSS溶液;然后將聚氨酯加入到八苯胺基POSS溶液中攪拌,得到混合溶液,將混合溶液傾倒于玻璃板上,然后將玻璃板移入真空烘箱中烘干,得到低介電常數(shù)POSS/聚氨酯復(fù)合材料薄膜。本發(fā)明的復(fù)合材料具有較低的介電常數(shù)和較好的機械性能。
聲明:
“低介電常數(shù)POSS/聚氨酯復(fù)合材料薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)