本發(fā)明涉及一種金屬基
復合材料,所述金屬基復合材料包括金屬基底以及直接包覆在所述金屬基底表面的具有Mn+1Xn(Ts)的結構式的MXene材料膜層,所述MXene材料通過將具有Mn+1AXn的結構式的化合物去除A得到,其中,M、A、X分別為三種不同的元素,n為正整數,Ts為MXene材料表面的封端基團,本發(fā)明制備的金屬基復合材料表面被MXene材料膜層均勻包覆,其中MXene材料的片層層數僅為1~15層,包覆厚度小于250nm,厚度均勻,包覆表面光滑平整,不存在表面缺陷,得到的金屬基復合材料的腐蝕速率很低,僅為原金屬基底腐蝕速率的0.06%左右,本發(fā)明還提出了一種新的用于制備所述金屬基復合材料的方法,該方法無需復雜的儀器設備,能夠方便快捷的制備所述金屬基復合材料。
聲明:
“金屬基復合材料及其制備方法和用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)