以La2TiO5作為單一前驅(qū)體,在高溫氨氣氛下進行熱氨解氮化,制備吸收帶邊為600nm左右的無EPR和UV?Vis?NIR光譜可探測的缺陷的LaTiO2N半導體,惰性氣氛退火處理,得到缺陷濃度可調(diào)變的LaTiO2N,提高LaTiO2N光催化活性?;蛘咭訪a2Ti2O7作為單一前驅(qū)體,在高溫氨氣氛下進行熱氨解氮化,制備具有缺陷的LaTiO2N半導體,惰性氣氛退火處理進一步增加缺陷濃度,提高LaTiO2N光催化活性。本方法中,La2TiO5作為前驅(qū)體能夠有效抑制高溫氮化過程中Ti的還原,抑制低價Ti缺陷或雜相的形成,為缺陷濃度調(diào)控提供全范圍基礎;采用簡單的惰性氣氛退火處理形成陰離子空位缺陷,通過改變退火參數(shù)方便地調(diào)變?nèi)毕轁舛?,實現(xiàn)光催化活性優(yōu)化。
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