本發(fā)明涉及一種石墨烯制備裝置及應(yīng)用該裝置圖案化生長(zhǎng)石墨烯的方法，該裝置包括：下工作臺(tái)支架、加熱器A、下工作臺(tái)、夾具、上工作臺(tái)、加熱器B、上工作臺(tái)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、加熱器C、進(jìn)氣法蘭、排氣法蘭（10）、腔體外層、腔體保溫層、腔體內(nèi)層、進(jìn)樣門；利用該裝置的石墨烯生長(zhǎng)方法為：裝置下方載片負(fù)載液體金屬催化劑，裝置上方工作臺(tái)裝載生長(zhǎng)基底和圖案化模板，催化劑載片、基底和生長(zhǎng)環(huán)境獨(dú)立控制加熱溫度，利用低壓或常壓化學(xué)氣相沉積過程在基底上生長(zhǎng)完整連續(xù)或圖案化的石墨烯層；本裝置和方法可以在多種非金屬基底上低溫生長(zhǎng)圖案化石墨烯薄膜，避免了轉(zhuǎn)移、光刻、微加工等復(fù)雜器件制備工序，有利于簡(jiǎn)單石墨烯功能材料和器件的批量生產(chǎn)。