本發(fā)明屬
功能材料制備技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種鈀離子印跡復(fù)合膜的制備方法及其應(yīng)用。特指以聚二甲基硅氧烷制備基底膜,以鈀離子為模板、8?氨基喹啉和4?乙烯基吡啶為配體、甲基丙烯酸羥乙酯為功能單體、乙二醇二甲基丙烯酸酯為交聯(lián)劑、偶氮二異丁腈為引發(fā)劑,結(jié)合犧牲模板法、離子印跡聚合技術(shù),制備鈀離子印跡復(fù)合膜。選擇性吸附實(shí)驗(yàn)用來(lái)研究所制備的鈀離子印跡復(fù)合膜的選擇性吸附能力;選擇性滲透實(shí)驗(yàn)用來(lái)研究所制備的鈀離子印跡復(fù)合膜對(duì)目標(biāo)物(鈀離子)和非目標(biāo)物(鈷離子、銅離子、鎘離子和鎳離子)的選擇性滲透能力。結(jié)果表明利用本發(fā)明制備的鈀離子印跡復(fù)合膜對(duì)鈀離子具有較高的特異性識(shí)別能力和吸附分離能力。
聲明:
“用于選擇性分離鈀離子的離子印跡復(fù)合膜的制備方法及應(yīng)用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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