本發(fā)明涉及一種摩擦納米發(fā)電機驅(qū)動的電介質(zhì)陷阱態(tài)測量和成像系統(tǒng)及方法,屬于電介質(zhì)技術(shù)領(lǐng)域。該系統(tǒng)包括陷阱激勵電源裝置和測試樣品室;陷阱激勵電源裝置包括獨立層旋轉(zhuǎn)式摩擦納米發(fā)電機與旋轉(zhuǎn)電動機,能夠輸出恒電荷、高電壓,在電介質(zhì)表面激勵微功率的介質(zhì)阻擋均勻放電,使得電子充分入陷、脫陷,產(chǎn)生足夠強度且穩(wěn)定的脫陷電流脈沖;測試樣品室,用于固定被測電介質(zhì)薄膜,并提供可控填充氣體;測試電極結(jié)構(gòu)可拆卸,能夠更換不同測量模式的電極組;上下電極之間氣隙距離能夠調(diào)節(jié)。本系統(tǒng)具有無損、精準、二維成像的優(yōu)勢,進而獲取高聚物薄膜材料表面陷阱態(tài)分布的詳細信息,有助于
功能材料的絕緣、
儲能、微納表面特性等各項性能的檢測與提升。
聲明:
“摩擦納米發(fā)電機驅(qū)動的電介質(zhì)陷阱態(tài)測量和成像系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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