本發(fā)明公開了一種分子印跡介孔材料的合成方法。該方法是先將印跡模板分子組裝在溶液中介孔模板的表面,再利用可自聚合的化合物在溶液中聚合形成介孔材料,最后在酸性條件下移除模板形成介孔孔道與印跡空腔,從而得到分子印跡介孔材料。本方法不僅可以高效便捷的去除印跡材料中的模板,并且得到的印跡空腔都分布于介孔孔道的內(nèi)表面因而具有優(yōu)異的可接近性。所得材料用于復(fù)雜生物樣品中,對于目標分子表現(xiàn)出良好的選擇性以及優(yōu)秀的抗干擾能力。同時本發(fā)明中的雙模板對接技術(shù)也可以適用于基于其他致孔體系的多孔印跡材料的合成中,?在
功能材料和制備合成領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
聲明:
“分子印跡介孔材料合成方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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