本發(fā)明涉及
功能材料技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種高性能薄膜吸氣劑及其應(yīng)用。本發(fā)明公開(kāi)了一種薄膜吸氣劑利用與其化學(xué)成分相同的吸氣合金靶材制備得到,所述薄膜吸氣劑包括主體元素,所述主體元素為T(mén)i、Zr中的一種或兩種;優(yōu)選的,所述薄膜吸氣劑還包括Sc、Y、V、Hf和Ta中的任意一種或者任何組合。該薄膜吸氣劑具備高的吸氣量,能夠有效的維持MEMS
芯片器件的高真空性能要求,達(dá)到信號(hào)的穩(wěn)定性和高靈敏性。
聲明:
“高性能薄膜吸氣劑及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)