本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種自潔性多孔真空吸盤及其制備方法。所述自潔性多孔真空吸盤,包括基座以及設(shè)于基座上的多孔金屬吸附板,所述基座中部設(shè)有沉臺,多孔金屬吸附板卡接于沉臺內(nèi);所述基座的沉臺中部設(shè)有貫穿基座的抽氣孔,沉臺上表面設(shè)有十字交叉槽和若干沿豎直向下延伸的同心環(huán)形凹槽,所述十字交叉槽貫穿環(huán)形凹槽和抽氣孔。本發(fā)明的多孔真空金屬吸盤,其多孔金屬吸附板內(nèi)部縱橫交錯的通道以及吸盤基座腔體上通氣溝槽表面均沉積了PTFE防粘涂層,能夠解決目前主流多孔真空陶瓷吸盤,微孔易堵塞且不易清潔的問題。
聲明:
“自潔性多孔真空吸盤及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)