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新型高磁電阻磁隧道結的制備方法

944   編輯：管理員   來源：中冶有色技術網  
2023-03-18 15:00:02
本發(fā)明公開了一種新型高磁電阻磁隧道結的制備方法，包括以下步驟：首先清洗Si襯底基片并烘干待用；然后在烘干后的Si襯底基片上沉積SiO2薄膜；在SiO2薄膜上磁控濺射沉積Ru/Fe3O4/Ru/CoFe/NiFe金屬層；制備氧化鎂靶材；采用上述制得的氧化鎂靶材作為靶材，對磁控濺射腔抽真空，然后向該磁控濺射腔中通入一定量的氧氣和氬氣，在NiFe上沉積氧化鎂薄膜；然后在氧化鎂薄膜上濺射沉積NiFe/CoFe/Ru金屬層，形成磁隧道結，最后放入真空中在180?480℃下退火處理30?150min，得到高磁電阻磁隧道結。該方法制得的磁隧道結磁電阻效應高，熱穩(wěn)定性好。
聲明：
“新型高磁電阻磁隧道結的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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