本發(fā)明屬于表面冶金范疇。它是利用稀薄氣體中的輝光放電及濺射現(xiàn)象,在工件周圍設(shè)置輔助源極;同時利用真空電弧放電現(xiàn)象,在容器壁上設(shè)置一個或多個陰極電弧靶,作為主金屬源。在對工件施加負偏壓作用下,工件升至高溫,依靠欲滲金屬離子的轟擊與擴散,使工件表面獲得具有特殊物理、化學(xué)、機械性能的純金屬層、合金層、合金鍍層及化合物滲、鍍層。達到提高滲金屬速度及質(zhì)量,優(yōu)化工件表面性能的目的。
聲明:
“加弧輝光離子滲金屬技術(shù)及設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)