本發(fā)明涉及一種加熱?純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法,屬于冶金過程中的豎爐還原技術(shù)領(lǐng)域,解決了現(xiàn)有技術(shù)中氫氣利用率低的問題。該加熱?純氫還原冷卻系統(tǒng)包括自上而下依次連通設(shè)置的加熱段、等壓段和還原冷卻段;所述加熱段設(shè)置有氧化球團(tuán)入口、熱煙氣入口和煙氣出口,來(lái)自所述氧化球團(tuán)入口的氧化球團(tuán)與來(lái)自所述熱煙氣入口的熱煙氣在所述加熱段中進(jìn)行接觸,接觸后的煙氣從所述煙氣出口排出,接觸后的氧化球團(tuán)進(jìn)入所述等壓段;所述還原冷卻段設(shè)置有氫氣入口和氣體出口,來(lái)自所述等壓段中的氧化球團(tuán)與來(lái)自所述氫氣入口的氫氣在所述還原冷卻段中進(jìn)行還原和冷卻,所述還原和冷卻過程產(chǎn)生的氣體從所述氣體出口排出。本發(fā)明提高氫氣利用率。
聲明:
“加熱-純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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