本實(shí)用新型涉及一種給料系統(tǒng),尤其涉及一種基于PLC控制的給料裝置。本實(shí)用新型提出一種基于PLC控制的給料裝置,該裝置落礦均勻,避免堵料;給礦均勻,使球磨機(jī)工況穩(wěn)定。本實(shí)用新型所述的基于PLC控制的給料裝置包括:底架;固定底架頂端兩側(cè)的護(hù)板;設(shè)置于兩護(hù)板間的振動(dòng)給礦料斗;連接所述振動(dòng)給礦料斗與所述護(hù)板間的滑動(dòng)阻尼件;設(shè)置于振動(dòng)給礦料斗出料端的第一傳送帶;以及設(shè)置于第一傳送帶末端的皮帶秤;所述第一傳送帶和皮帶秤均通過導(dǎo)線與PLC控制器連接。
聲明:
“基于PLC控制的給料裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)