本發(fā)明提供一種具有微影光阻檢測圖案的光刻及其檢測方法,其利用形成于光刻上的四個(gè)檢測圖案來對第一層光阻的曝光情況進(jìn)行光刻置放判斷,其克服了傳統(tǒng)程中需要完成第一層與第二層微影光阻圖案化后才能對第一光刻置放進(jìn)行校對的缺陷,進(jìn)而避免制程成本上的浪費(fèi),且根據(jù)檢測圖案的圖形的扭曲位置可提供工程師獲得更多制程失效的相關(guān)信息。
聲明:
“具有微影光阻檢測圖案的光刻及其檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)