本發(fā)明提出一種半導(dǎo)體微臺面列陣的測量裝置和方法,該方法基于寬譜熱光源照明干涉儀的光學(xué)測量裝置與方法,結(jié)合光學(xué)相干層析技術(shù)與衍射度量技術(shù)的特點(diǎn),可無損、快速的測量微臺面列陣的表面形貌并準(zhǔn)確提取微臺面列陣的周期、橫向尺寸與深度等幾何信息,滿足微臺面列陣的測量要求。
聲明:
“半導(dǎo)體微臺面列陣的測量裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)