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用于測量薄膜厚度的SHEL分裂位移測量方法

785 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:58:26

本發(fā)明公開了一種用于測量薄膜厚度的SHEL分裂位移測量方法，步驟一建立薄膜厚度對應的SHEL分裂位移隨入射角變化的理論曲線圖；步驟二選取一組入射角度，使入射光以某一初始角度入射到薄膜表面獲取經(jīng)薄膜反射后的光束圖像并將圖像進行處理得到相應的SHEL分裂位移；步驟三依次改變?nèi)肷浣嵌鹊玫絊HEL分裂位移隨入射角度變化的測量曲線；步驟四比對步驟一所得SHEL分裂位移隨入射角度變化的理論曲線和步驟三所得測量曲線確定薄膜的厚度。本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明是利用SHEL的分裂位移與薄膜厚度的關系，實現(xiàn)了對金屬和非金屬所有材料薄膜厚度的非接觸、無損的高精度測量，且該測量系統(tǒng)結構簡單、便于操作。

聲明：

“用于測量薄膜厚度的SHEL分裂位移測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)