披露了一種用于光學地診斷半導體制造過程的改進的設備和系統(tǒng)以及相關聯(lián)的方法的實施例。在等離子體加工系統(tǒng)中,使用高光譜成像系統(tǒng)來采集來自等離子體的發(fā)射的光譜解析圖像。采集的高光譜圖像可以用來確定等離子體的化學成分和等離子體過程端點。替代地,高光譜成像系統(tǒng)用來在加工之前、期間或之后采集襯底的光譜解析圖像,以確定襯底或在襯底上形成的層和特征的特性,包括是否已經達到過程端點;或者在加工之前或之后,用于檢查襯底狀況。
聲明:
“使用高光譜成像的半導體過程的光學診斷” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)