本公開涉及機(jī)械工程領(lǐng)域。特別地，本公開涉及一種與化學(xué)發(fā)光檢測器(CLD)一起使用的設(shè)備，其用于均勻化氣體的混合，該設(shè)備包括外導(dǎo)管(102)；穿過所述外導(dǎo)管(102)的內(nèi)導(dǎo)管(104)；第一通道(104)，其穿過所述內(nèi)導(dǎo)管(102)限定，以導(dǎo)通所述兩種流體中的一種；所述外導(dǎo)管(102)的內(nèi)壁(102’)與所述內(nèi)導(dǎo)管(104)的外壁(104’)間隔開以限定第二通道(102A)，用于導(dǎo)通所述兩種流體中的第二流體；所述外導(dǎo)管(102)限定底端(102B)，所述內(nèi)導(dǎo)管(104)限定相對(duì)于所述底端(102B)凹進(jìn)的第一出口(104B)。反應(yīng)區(qū)(106)限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之間的凹進(jìn)部中，用于從所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述兩種流體以均勻化。本發(fā)明的均勻化設(shè)備的技術(shù)進(jìn)步在于，它有利于氣體的均勻混合，并允許混合物在CLD探測器的中心行進(jìn)，以避免由于不當(dāng)?shù)幕旌?、氣體短路流動(dòng)和CLD中的光淬滅而引起的光子損失。