本發(fā)明涉及一種激光薄膜元件用光學(xué)基板的清洗方法,具體步驟為:用蘸有丙酮的棉簽擦拭光學(xué)基板,直至在白熾燈照射下基板表面無肉眼可見的污染物為止;將擦拭后的基板置于第一槽堿性溶液,分別用不同頻率對基板先后進超聲清洗;將所得基板放置于第二槽中,用去離子水噴淋;將基板放置于第三槽去離子水中,分別在不同頻率下先后超聲3~6分鐘,在白熾燈下觀測基板表面潔凈度,無肉眼可見顆粒后將基板放置于第四槽去離子水中在80KHz超聲下進行慢提拉,用熱吹風(fēng)將提拉后的基板干燥,即得到所需產(chǎn)品。本發(fā)明將清洗過程與表面檢測結(jié)合起來,將擦拭法、化學(xué)清洗法、超聲波清洗法結(jié)合起來綜合運用,以達到清洗效率高而又對基板光滑表面損傷小的最優(yōu)清洗效果。
聲明:
“激光薄膜元件用光學(xué)基板的清洗方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)