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發(fā)射率測量裝置的校準(zhǔn)方法

750   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:25:21
本發(fā)明涉及一種發(fā)射率測量裝置的校準(zhǔn)方法,屬于紅外測試領(lǐng)域,解決了現(xiàn)有發(fā)射率測量裝置校準(zhǔn)成本高的問題。校準(zhǔn)方法包括:根據(jù)需要得到的標(biāo)準(zhǔn)氧化膜的發(fā)射率E理論,計算得到標(biāo)準(zhǔn)氧化膜的厚度d;根據(jù)氧化膜的厚度d確定電解液的質(zhì)量濃度c;以質(zhì)量濃度c的電解液對作為陽極的鋁片進(jìn)行電化學(xué)氧化,在鋁片表面制備得到標(biāo)準(zhǔn)氧化膜;采用傅里葉紅外光譜發(fā)射率測量裝置檢測制備得到的標(biāo)準(zhǔn)氧化膜的發(fā)射率E測,E測作為標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率;用發(fā)射率測量裝置測量采用步驟1至步驟3的方法制備得到的一系列已知標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率的標(biāo)準(zhǔn)氧化膜,通過測得的數(shù)值與標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率進(jìn)行比較,以校準(zhǔn)發(fā)射率測量裝置。本發(fā)明的方法能夠快速進(jìn)行發(fā)射率測量裝置的校準(zhǔn)。
聲明:
“發(fā)射率測量裝置的校準(zhǔn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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