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利用非線性光學(xué)現(xiàn)象的激光掃描晶片檢查

818   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:20:10
提供一種利用線性和非線性光學(xué)現(xiàn)象以檢測缺陷的光學(xué)檢查設(shè)備和方法。實施例包括:利用光束,例如,入射波長的掃描激光,輻照物品的部分表面,例如,半導(dǎo)體器件。利用衍射光柵,棱鏡或濾光片,使輻照表面部分射出的光被分割成入射波長的光和一個或多個預(yù)定的非入射波長的光。入射波長和非入射波長的光發(fā)送到分開的檢測器,例如,光電倍增管(PMT),這些檢測器分別把檢測的線性光學(xué)現(xiàn)象(例如,代表表面形態(tài))轉(zhuǎn)換成電信號和把檢測的非線性光學(xué)現(xiàn)象,例如,熒光,喇曼散射和/或倍頻效應(yīng),轉(zhuǎn)換成代表化學(xué)成分和材料界面的電信號。來自每個檢測器的信號發(fā)送到處理器,該處理器基于從線性和非線性光學(xué)現(xiàn)象收集的信息產(chǎn)生缺陷圖。
聲明:
“利用非線性光學(xué)現(xiàn)象的激光掃描晶片檢查” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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