本實用新型公開了一種密封式化學(xué)拋光裝置,包括拋光機和設(shè)于拋光機內(nèi)的拋光腔,其還包括設(shè)于拋光機上用于測量拋光腔內(nèi)壓強的氣壓計,與拋光腔連通的抽真空裝置,分別與所述氣壓計以及抽真空裝置連接的控制器。本實用新型通過設(shè)置抽真空裝置將拋光機的拋光腔抽成真空狀態(tài),這樣工件在拋光腔內(nèi)加工時,不會被空氣氧化,進(jìn)而提高了工件的拋光加工質(zhì)量。
聲明:
“密封式化學(xué)拋光裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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