本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種化學(xué)液濃度控制系統(tǒng)和清洗裝置，該化學(xué)液濃度控制系統(tǒng)包括儲(chǔ)液模塊，儲(chǔ)液模塊用于儲(chǔ)存化學(xué)液，化學(xué)液中溶有至少一種化學(xué)品；至少一條化學(xué)品輸送管路，用于向儲(chǔ)液模塊輸送化學(xué)品，化學(xué)品輸送管路上設(shè)置有流量計(jì)；濃度測(cè)量模塊，用于測(cè)量化學(xué)液的濃度；流量控制模塊，流量控制模塊分別與流量計(jì)、濃度測(cè)量模塊連接，用于根據(jù)流量計(jì)測(cè)得的當(dāng)前流量數(shù)據(jù)、濃度測(cè)量模塊測(cè)得的當(dāng)前濃度數(shù)據(jù)和目標(biāo)濃度控制化學(xué)品輸送管路的流量。本實(shí)用新型實(shí)施例通過流量控制模塊根據(jù)當(dāng)前流量數(shù)據(jù)、當(dāng)前濃度數(shù)據(jù)和目標(biāo)濃度控制化學(xué)品輸送管路的流量以使清洗晶片的化學(xué)液始終維持在目標(biāo)濃度，進(jìn)而保證對(duì)晶片完全且適度清洗。