提供一種用化學(xué)放大抗蝕劑對銦-錫-氧化物(ITO)膜進行圖形刻蝕時在抗蝕劑顯影后即使暴露在白色光線下也不發(fā)生抗蝕劑剝離和密接性下降的ITO膜的圖形刻蝕方法。在基板上首先形成非晶態(tài)ITO膜,直接涂敷負型化學(xué)放大抗蝕劑,進行照射、顯影。所獲得的在非晶態(tài)ITO膜上有抗蝕劑圖形的結(jié)構(gòu)即使暴露在白色光下,也不發(fā)生抗蝕劑剝離和密接性下降,所以不會對后面的工序產(chǎn)生不良影響,能進行充分的目視檢查。關(guān)于目視檢查中斷定為正品的該結(jié)構(gòu),將抗蝕劑圖形作為掩模,對非晶態(tài)ITO膜進行刻蝕,將抗蝕劑圖形除去后,通過用ITO的結(jié)晶化溫度以上的溫度加熱,能獲得具備良好的耐藥性及導(dǎo)電性的結(jié)晶化ITO圖形。
聲明:
“使用化學(xué)放大抗蝕劑的透明導(dǎo)電膜的形成方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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