本發(fā)明公開了一種利用原位化學(xué)熒光滴定測量氟原子產(chǎn)率的方法,本質(zhì)上是一種經(jīng)過改進(jìn)的化學(xué)滴定方法。該方法特別適用于HF化學(xué)激光器,使用HF化學(xué)激光器中原本就存在的H2作為滴定劑,充分利用了HF化學(xué)激光器的原有裝置,不需要進(jìn)行額外改動,具有方便易用的特點(diǎn)。此外,該方法所用的滴定指示信號是光腔原位化學(xué)熒光中NH(A)發(fā)光強(qiáng)度和N2(B)發(fā)光強(qiáng)度的比值,該比值只與主氣流中的氣流組分有關(guān),與熒光絕對強(qiáng)度無關(guān),因此能夠排除光譜測量時絕對光強(qiáng)度漲落噪聲的影響,可以有效提高測量準(zhǔn)確性。
聲明:
“利用原位化學(xué)熒光滴定測量氟原子產(chǎn)率的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)