本實用新型涉及一種鹽堿沙質地苗木種植穴機構,包括種植穴體,所述種植穴體的底部包覆有底層土工布,所述底層土工布包覆種植穴體至少30cm高;所述種植穴體四周設有30-50cm寬的土壤適應緩沖環(huán)溝;所述種植穴體和緩沖環(huán)溝的上方鋪設有由頂層土工布形成的隔離層,所述隔離層的上方均勻分布有由細砂形成的防蒸發(fā)層。本實用新型是在鹽堿地質設置,通過形成隔離和逐漸適應的種植方式,用于改善鹽堿地水分不足鹽分含量過多高影響苗木種植的問題,使得苗木適應鹽堿地環(huán)境而存活生長,結構簡單可廣泛推廣。
聲明:
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