本發(fā)明公開了一種在衛(wèi)星圖像中標(biāo)記頁巖層的方法和裝置。其中,該方法包括:獲取由衛(wèi)星對待采集的地質(zhì)區(qū)域采集得到的衛(wèi)星圖像;根據(jù)預(yù)先建立的頁巖層的成像模型在衛(wèi)星圖像中標(biāo)記對應(yīng)的頁巖層;輸出執(zhí)行標(biāo)記的操作后的結(jié)果。本發(fā)明解決了僅憑借人為經(jīng)驗(yàn)對頁巖層進(jìn)行尋找所導(dǎo)致的準(zhǔn)確性較低的技術(shù)問題,達(dá)到了提高在衛(wèi)星圖像中標(biāo)記頁巖層的準(zhǔn)確性,并縮短了頁巖層的標(biāo)記時間的技術(shù)效果。
聲明:
“在衛(wèi)星圖像中標(biāo)記頁巖層的方法和裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)