一種SiC/Co異質(zhì)復(fù)合納米線的制備方法,它涉及一種復(fù)合納米線的制備方法。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有SiC/Co
復(fù)合材料化學(xué)鍍制備方法的存在步驟繁瑣、可控性差和沉積粒子尺寸過大的問題。方法:一、混合;二、回流反應(yīng);三、磁分離,即得到SiC/Co異質(zhì)復(fù)合納米線。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn):一、克服傳統(tǒng)化學(xué)鍍存在步驟繁瑣和可控性差的問題;二、本發(fā)明SiC納米線表面沉積的Co粒子的尺寸為5nm~10nm。本發(fā)明主要用于制備SiC/Co異質(zhì)復(fù)合納米線。
聲明:
“SiC/Co異質(zhì)復(fù)合納米線的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)