本發(fā)明公開一種防水光學鍍膜靶材的制備方法,涉及鍍膜技術領域,包括配料、加粘、烘燥、壓制、燒結、抽空、加載和加壓工藝步驟。本發(fā)明,工藝設計科學、新穎,鍍膜靶材制備方便,節(jié)約成本,作用可靠、安全、環(huán)保,所形成的防水鍍膜,表面滑爽性好,摩擦系數小,防水防污染性能好,鍍膜鏡片不沾塵,易于擦拭。
聲明:
“防水光學鍍膜靶材及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)