本公開提供了一種具有高紅外反射率的微疊層薄膜及其制備方法,步驟包括:采用電射流方法在預(yù)處理過(guò)的基體表面依次沉積金屬間化合物?碳化物復(fù)合薄膜和金屬氧化物薄膜,形成具有多層結(jié)構(gòu)的微疊層薄膜;采用電射流方法沉積多層微疊層薄膜,設(shè)備簡(jiǎn)單、可控性強(qiáng)、沉積速率高,同時(shí)制備的微疊層薄膜致密度高,薄膜表面氣孔少和微裂紋少,且薄膜具有較高的紅外反射率;解決了旋涂法對(duì)實(shí)驗(yàn)環(huán)境要求高且制備的薄膜不均勻和激光熔覆法的激光熔覆設(shè)備昂貴,而且得到的涂層內(nèi)部氣孔較多,涂層組織不均勻,這使得涂層具有較低的紅外反射率的問(wèn)題。
聲明:
“具有高紅外反射率的微疊層薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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