本發(fā)明提供一種高致密度鉬鉭合金濺射靶材的制備工藝,該工藝包括如下步驟:S1、鉭粉氫化處理;S2、原料混合;S3、膠套裝粉作業(yè);S4、冷等靜壓作業(yè):升壓至一定壓力后,保壓一段時(shí)間,然后泄壓,最后將壓制坯從膠套取出;S5、真空燒結(jié);S6、熱軋作業(yè):對(duì)鉬鉭合金進(jìn)行金屬包套軋制,熱軋后退火去除應(yīng)力;S7、進(jìn)行磨削等機(jī)加工作業(yè),得到最終所需產(chǎn)品尺寸。本發(fā)明的工藝步驟簡(jiǎn)單,操作便捷,制備的鉬鉭合金濺射靶材純凈度、相對(duì)密度均滿足高端電子產(chǎn)品鍍膜領(lǐng)域使用需求,且生產(chǎn)成本低,產(chǎn)品尺寸寬泛,便于工業(yè)化批量生產(chǎn)。
聲明:
“高致密度鉬鉭合金濺射靶材的制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)