本實(shí)用新型提供一種真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤,屬于真空冶金爐設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。包括電極孔、盤體和間隙孔;所述盤體中央設(shè)置圓柱形電極孔,盤體的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔;盤體底部向盤體中心與水平面呈5~10°的傾斜角;盤體的厚度為15~20mm;間隙孔為數(shù)個(gè),是在盤體的側(cè)壁邊緣上每間隔6~8cm設(shè)置一個(gè)。在蒸發(fā)溫度條件下,隨著靠近蒸發(fā)盤中心金屬液體的蒸發(fā),蒸發(fā)盤外側(cè)的金屬液體向盤中心流動,加速蒸發(fā),并改善了蒸發(fā)進(jìn)行的動力學(xué)條件,減少蒸發(fā)相同金屬量所需要的時(shí)間,節(jié)約了能耗。
聲明:
“真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)