本實用新型涉及一種兩段蒸餾的真空爐,屬于真空冶金設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該真空爐包括爐體、坩堝Ⅰ、坩堝Ⅱ、溫控加熱構(gòu)件Ⅰ、溫控加熱構(gòu)件Ⅱ、冷凝室、導(dǎo)氣管、坩堝支架、支撐板Ⅰ、支撐板Ⅱ,熱電偶Ⅰ、熱電偶Ⅱ、熱電偶Ⅲ,坩堝支架固定設(shè)置在爐體底部,坩堝Ⅰ設(shè)置在坩堝支架上,支撐板Ⅰ固定設(shè)置在爐體內(nèi)壁,支撐板Ⅱ固定設(shè)置在爐體內(nèi)壁,冷凝室固定設(shè)置在支撐板Ⅰ上端、坩堝Ⅱ設(shè)置在支撐板Ⅰ下端且固定設(shè)置在支撐板Ⅱ上端,冷凝室與坩堝Ⅱ連通,坩堝Ⅰ和坩堝Ⅱ通過導(dǎo)氣管連通,溫控加熱構(gòu)件Ⅰ與坩堝Ⅰ連接,溫控加熱構(gòu)件Ⅱ與坩堝Ⅱ連接,熱電偶Ⅰ設(shè)置在坩堝Ⅰ內(nèi),熱電偶Ⅱ設(shè)置在坩堝Ⅱ內(nèi)、熱電偶Ⅲ設(shè)置在導(dǎo)氣管內(nèi)。
聲明:
“兩段蒸餾的真空爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)