本實用新型提出一種制備β?SiC納米粉體的真空還原熱處理設(shè)備,包括爐體,所述爐體內(nèi)部設(shè)有放置盒,所述放置盒為頂部開口結(jié)構(gòu),所述放置盒內(nèi)部設(shè)有多個隔板,所述放置盒一側(cè)與進料板相接觸,所述進料板一端與進料口相連,所述進料口設(shè)置在爐體端面上,所述進料板上設(shè)有多個凸條,所述凸條底部與滑軌滑動連接,所述滑軌固定連接在進料板頂部,所述凸條數(shù)量與隔板數(shù)量一致,所述凸條一端與隔板相接觸;通過設(shè)置放置盒以及在放置盒內(nèi)設(shè)有隔板,并通過進料板進行放置石墨,可保證石墨在放置時間隔一致,提高其還原效果。
聲明:
“制備β-SiC納米粉體的真空還原熱處理設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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