本發(fā)明涉及一種高純鉭靶材的制備方法,屬于難熔金屬制備特種技術(shù)領(lǐng)域。所。所述方法通過:以五氟化鉭和氫氣為反應(yīng)原料,或五氯化鉭和氫氣為反應(yīng)原料進(jìn)行化學(xué)氣相沉積,線切割加工去基體,得到純度為99.999%以上的高純鉭板;將所述高純鉭板進(jìn)行軋制,得到軋制坯料;將所述軋制坯料在真空或惰性氣體氣氛保護(hù)下進(jìn)行熱處理再結(jié)晶得到鉭靶坯料,經(jīng)過機(jī)械加工,將加工后的鉭靶坯料與背板焊接得高純鉭靶材。所述方法制備出的鉭靶材純度高達(dá)99.999%以上,較傳統(tǒng)工藝
粉末冶金制備出的鉭靶材相比純度更高,有效避免了濺射過程中鉭靶材在電子轟擊作用下內(nèi)部雜質(zhì)元素被轉(zhuǎn)移到終端產(chǎn)品上,有效提高了終端產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
聲明:
“高純鉭靶材的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)