本實(shí)用新型涉及電解鎳的新液凈化除雜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種電解鎳凈化除雜反應(yīng)槽,所述凈化除雜反應(yīng)槽包括槽體、槽蓋和導(dǎo)流裝置;槽體下端設(shè)有底風(fēng)管,槽體側(cè)面設(shè)有進(jìn)液口和出液口;槽蓋用于封閉槽體上端開(kāi)口,槽蓋頂部設(shè)有通風(fēng)口、氯氣加入管、試劑加入口和檢測(cè)口;氯氣加入管深入槽體內(nèi)腔三分之二深度以下,檢測(cè)口處安裝有pH/ORP測(cè)試儀;導(dǎo)流裝置包括導(dǎo)流筒,導(dǎo)流筒豎向安裝在槽體內(nèi)腔,導(dǎo)流筒上端與出液口連通;其中,底風(fēng)管、通風(fēng)口、進(jìn)液口、出液口、氯氣加入管和試劑加入口上均設(shè)有自動(dòng)調(diào)節(jié)閥門(mén)。本實(shí)用新型能夠在大流量高雜質(zhì)體系中進(jìn)行高效除雜,并獲得純凈的電解陰極液。
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“電解鎳凈化除雜反應(yīng)槽” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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