并聯(lián)循環(huán)連續(xù)電積脫砷法,電解液在電積脫砷槽 之間為并聯(lián)循環(huán)式流動,加熱循環(huán)液,溫度控制在60~66℃, 對電積脫砷過程進(jìn)行全面補液,補給液流量與排出液流量相 等,補給液流量控制在1~20m3/h 之間,補給 液銅砷控制在Cu∶As=1.5~3∶1~1.5;部分電解槽作為終點 槽,終點槽排出溶液銅離子濃度控制在 Cu2+=0.5~2.5g/L,通過控制脫 砷補給液、循環(huán)液、終點排出液,使脫砷過程中砷與銅形成砷 銅合金Cu2As、 Cu3As,且盡可能生成 Cu2As。
聲明:
“并聯(lián)循環(huán)連續(xù)電積脫砷法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)