一種高性能光熱轉化多基元合金氮化物薄膜及其制備方法,采用
粉末冶金法和真空電弧熔煉法成功制備出多基元合金濺射靶材,并采用真空磁控濺射鍍膜工藝通過改變?yōu)R射時間和工作氣壓制備出不同厚度的多基元合金氮化物薄膜,為太陽能光譜選擇吸收涂層提供
新材料。太陽能選擇吸收涂層典型結構:紅外反射層、雙吸收層、減反層三明治結構,該涂層具有更高的吸收率和熱穩(wěn)定性。本發(fā)明在拋光的不銹鋼基體上濺鍍單層多基元合金氮化物薄膜,經檢測單層多基元合金氮化物薄膜在太陽能光譜范圍較其他單層光熱轉化薄膜具有更高的吸收率為79.82%,且獲得的多基元合金氮化物薄膜厚度均勻,與基體具有良好結合能力和耐高溫性能。本發(fā)明適用于高溫真空集熱管,在太陽能光熱領域具有廣闊的應用前景。
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“高性能光熱轉化多基元合金氮化物薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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