權(quán)利要求書： 1.一種用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液，其特征在于，由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸5～8％、氨基磺酸3～5％、氯化鈉0.5～1％、尿素0.2～0.5％，余量為水。

2.如權(quán)利要求1所述的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液，其特征在于，由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸5～7％、氨基磺酸3～4.5％、氯化鈉0.5～0.75％、尿素0.2～0.4％，余量為水。

3.如權(quán)利要求2所述的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液，其特征在于，由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸6.5～7％、氨基磺酸4～4.5％、氯化鈉0.75％、尿素0.35～

0.4％，余量為水。

4.一種側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：將側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶浸入拋光液中進(jìn)行電解拋光，出拋光液后依次進(jìn)行清洗、干燥；所述拋光液為如權(quán)利要求1?3任一項(xiàng)所述的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液；電解拋光過程中，拋光液2

的溫度為35～45℃，電流密度為6～8mA/cm；電解拋光的時(shí)間為2～3min。

5.如權(quán)利要求4所述的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法，其特征在于，電解拋光過程中，陰極為鎳板；陰極與陽(yáng)極的間距為10～15cm。

說(shuō)明書： 一種用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液、電解拋光方法

技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及一種用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液、電解拋光方法，屬于電解拋光技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)[0002] 作為純銀帶的替代材料，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶是目前應(yīng)用于低壓熔斷器中熔體材料制造中的新型復(fù)合材料，通過以銅代銀可以很好的節(jié)約銀材降低成本，同時(shí)兼具良好的電氣性能。隨著電力、冶金、化工、石化等行業(yè)的發(fā)展，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶得到了快速發(fā)展。[0003] 但是銀銅復(fù)合帶中用以復(fù)合的銅材部分在生產(chǎn)流轉(zhuǎn)及中間倉(cāng)儲(chǔ)過程中極易氧化而導(dǎo)致表面質(zhì)量下降，對(duì)于后續(xù)的冷軋及退火工序產(chǎn)生不良影響，同時(shí)影響最終成品的表面光潔度并影響產(chǎn)品的電器性能。因此，需要對(duì)銀銅復(fù)合帶進(jìn)行表面處理，常用的表面處理工藝為酸洗后機(jī)械拋磨，工序繁瑣且易造成環(huán)境污染，并對(duì)操作工人的職業(yè)健康產(chǎn)生危害。[0004] 電解拋光是一種特殊的陽(yáng)極電化學(xué)加工方式，在該過程中被拋光件作陽(yáng)極，不溶性金屬作陰極，通過電化學(xué)陽(yáng)極溶解，從而達(dá)到去除工件表面劃痕、毛刺等效果，使工件表面平整光亮。但是側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶包括間隔設(shè)置的銀條帶和銅條帶，采用傳統(tǒng)的機(jī)械拋磨方法或傳統(tǒng)組分的拋光液進(jìn)行表面處理時(shí)，由于復(fù)合帶中的純銀部分材質(zhì)較軟，機(jī)械拋磨損耗較大，且銀與硝酸、磷酸等中強(qiáng)無(wú)機(jī)酸反應(yīng)速度較快，易造成貴金屬的損耗。發(fā)明內(nèi)容[0005] 本發(fā)明的目的在于提供一種用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液，用于解決目前側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶采用傳統(tǒng)無(wú)機(jī)中強(qiáng)酸類拋光液進(jìn)行電解拋光時(shí)存在的貴金屬損耗較大問題。[0006] 本發(fā)明的另一目的在于提供一種側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法。[0007] 為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液所采用的技術(shù)方案為：[0008] 一種用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液，由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸5～8％、氨基磺酸3～5％、氯化鈉0.5～1％、尿素0.2～0.5％，余量為水。

[0009] 本發(fā)明的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液具有較好的電解拋光效果。其中，檸檬酸具有為電解液提供離子的作用，氨基磺酸具有調(diào)節(jié)離子濃度的作用，氯化鈉具有提高去膜速度及改善帶材光潔度的作用，尿素具有酸堿調(diào)節(jié)的作用；當(dāng)將上述原料組合使用時(shí)，具有提高電解液中電解質(zhì)的協(xié)同作用、減少能耗的有益效果。采用本發(fā)明的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液進(jìn)行電解拋光側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶時(shí)，可以保證處理后的電解拋光側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的表面具有較小的粗糙度，也可以避免造成貴金屬的損耗。[0010] 為了避免拋光液對(duì)氧化層下的金屬造成腐蝕而降低側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的厚度，優(yōu)選地，上述用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸5～7％、氨基磺酸3～4.5％、氯化鈉0.5～0.75％、尿素0.2～0.4％，余量為水。[0011] 為了提高側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶表面的平整度和降低粗糙度，優(yōu)選地，上述用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分比的組分組成：檸檬酸6.5～7％、氨基磺酸4～4.5％、氯化鈉0.75％、尿素0.35～0.4％，余量為水。[0012] 本發(fā)明的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法所采用的技術(shù)方案為：[0013] 一種側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法，包括以下步驟：將側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶浸入拋光液中進(jìn)行電解拋光，出拋光液后依次進(jìn)行清洗、干燥；所述拋光液為上述的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液；電解拋光過程中，拋光液的溫度為35～45℃，電流密度為2

6～8mA/cm；電解拋光的時(shí)間為2～3min。

[0014] 本發(fā)明的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法避免了傳統(tǒng)機(jī)械拋磨產(chǎn)生的粉塵污染，提高了生產(chǎn)效率，提高了產(chǎn)品的表面質(zhì)量，對(duì)操作工人的職業(yè)安全健康提供了保障。電解拋光后的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶具有表面光亮平整、粗糙度較小的優(yōu)點(diǎn)。[0015] 電解拋光過程中為了便于調(diào)節(jié)電流密度及電解速率，控制拋光液的溫度為35～45℃。進(jìn)一步優(yōu)選地，電解拋光中，所述拋光液的溫度為40℃。[0016] 電解拋光的時(shí)間為2～3min，既可以有效除去側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶表面的氧化層，也可以避免造成酸液對(duì)氧化層下面的金屬層的腐蝕，造成側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的厚度減小。[0017] 本發(fā)明中，電流密度是指電解拋光中單位面積的陽(yáng)極上分布的電流強(qiáng)度(A)。電解2

拋光過程中控制電流密度為6～8mA/cm ，可以使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在電解拋光中復(fù)合帶中的銀條部分與銅條部分的電解速率趨于一致。

[0018] 優(yōu)選地，電解拋光中，設(shè)置直流電源電壓為25～30。[0019] 優(yōu)選地，電解拋光中，陰極為鎳板；陰極與陽(yáng)極的間距為10～15cm。例如，陰極與陽(yáng)極的間距為10cm。優(yōu)選地，電解拋光中，鎳板寬度為側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶寬度的2倍，且在寬度方向上對(duì)稱擺放。[0020] 優(yōu)選地，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶出拋光液后依次進(jìn)入水中進(jìn)行超聲清洗，再進(jìn)入酒精中進(jìn)行清洗，然后進(jìn)行干燥。利用水進(jìn)行超聲清洗可以去除側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶表面的殘留電解液和其他雜質(zhì)。利用酒精可以對(duì)側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶進(jìn)行除水除油清洗。附圖說(shuō)明[0021] 圖1為實(shí)施例5的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法所采用的拋光設(shè)備的示意圖；其中，附圖標(biāo)記如下：1?電解池，2?拋光液，3?陰極鎳板，4?陽(yáng)極導(dǎo)輪，5?絕緣導(dǎo)輪，6?儲(chǔ)液槽，7?導(dǎo)液管，8?循環(huán)泵，9?控制器，10?防腐熱電偶，11?加熱盤管。

具體實(shí)施方式[0022] 下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。[0023] 一、本發(fā)明的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液的具體實(shí)施例如下：[0024] 實(shí)施例1[0025] 本實(shí)施例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸5％、氨基磺酸3％、氯化鈉0.5％、尿素0.2％，余量為水。[0026] 實(shí)施例2[0027] 本實(shí)施例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸6.5％、氨基磺酸4％、氯化鈉0.75％、尿素0.35％，余量為水。[0028] 實(shí)施例3[0029] 本實(shí)施例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸8％、氨基磺酸5％、氯化鈉1％、尿素0.5％，余量為水。[0030] 實(shí)施例4[0031] 本實(shí)施例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸7％、氨基磺酸4.5％、氯化鈉0.75％、尿素0.4％，余量為水。[0032] 對(duì)比例1[0033] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸7％、氨基磺酸4.5％、尿素0.4％，余量為水。[0034] 對(duì)比例2[0035] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸7％、氨基磺酸4.5％、氯化鈉0.75％，余量為水。[0036] 對(duì)比例3[0037] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸4％、氨基磺酸2.5％、氯化鈉0.5％、尿素0.2％，余量為水。[0038] 對(duì)比例4[0039] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：檸檬酸10％、氨基磺酸6％、氯化鈉1％、尿素0.5％，余量為水。[0040] 對(duì)比例5[0041] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：硝酸4％、氨基磺酸2.5％、氯化鈉0.5％、尿素0.2％，余量為水。[0042] 對(duì)比例6[0043] 本對(duì)比例的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：硝酸4％、磷酸2.5％、氯化鈉0.5％、尿素0.2％，余量為水。[0044] 二、本發(fā)明的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法的具體實(shí)施例如下：[0045] 實(shí)施例5[0046] 本實(shí)施例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法所采用的拋光設(shè)備如圖1所示，包括電解池1，電解池1在使用時(shí)用于容納拋光液2，在電解池1的兩側(cè)分別布置有陽(yáng)極導(dǎo)輪組件，每個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪組件均包括兩個(gè)相對(duì)布置的陽(yáng)極導(dǎo)輪4，此處的陽(yáng)極導(dǎo)輪為陽(yáng)極石墨導(dǎo)輪，陽(yáng)極導(dǎo)輪4在使用時(shí)與直流電源相連接。同一個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪組件中的兩個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪4之間形成通道，供電解拋光時(shí)側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶穿過。電解拋光時(shí)，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶進(jìn)入到兩個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪4之間，并在電解拋光后由另兩個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪4中穿出，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶與陽(yáng)極導(dǎo)輪4接觸導(dǎo)電，使得側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶形成陽(yáng)極。[0047] 在電解池1的底部以及中間位置分別固定有陰極板，此處的陰極板為陰極鎳板3，兩塊陰極鎳板3沿上下方向排布，且平行布置，電解拋光時(shí)，兩塊陰極鎳板3均位于電解液2的液面(圖1中虛線)以下。使用時(shí)，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶由兩塊陰極鎳板3中間穿入，并且使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶距離兩塊陰極鎳板3的間隔相等，陰極鎳板3的寬度為側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶寬度的2倍，且在寬度方向上對(duì)稱擺放，以保證側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶兩面的電解拋光效果一致。為將側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶引導(dǎo)至電解液2液面(圖1中虛線)以下，并使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶保持在與兩塊陰極鎳板3距離均相等的位置，如圖1所示，在每一個(gè)陽(yáng)極導(dǎo)輪組件處均布置有絕緣導(dǎo)輪5，絕緣導(dǎo)輪5為絕緣材質(zhì)，使用時(shí)絕緣導(dǎo)輪5的下邊緣浸入電解液2的液面(圖1中虛線)以下，能夠?qū)?cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶導(dǎo)向至電解液2中，而且絕緣導(dǎo)輪5的下邊緣與兩塊陰極鎳板3之間的鏡向面處于同一平面上，保證側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶能夠保持在與兩塊陰極鎳板3距離相等的位置。

[0048] 在電解池1的下方還有儲(chǔ)液槽6，儲(chǔ)液槽6用于儲(chǔ)存拋光液，儲(chǔ)液槽6和電解池1之間連接有導(dǎo)液管7，此處的導(dǎo)液管7為耐酸管，導(dǎo)液管7上設(shè)置有循環(huán)泵8，在電解拋光過程中實(shí)現(xiàn)電解池1、儲(chǔ)液槽6內(nèi)拋光液2的循環(huán)流動(dòng)。為對(duì)拋光液2的溫度進(jìn)行控制，電解拋光設(shè)備還包括溫控系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)包括布置在儲(chǔ)液槽6中的加熱盤管11，加熱盤管11為鐵氟龍耐酸堿加熱盤管，加熱盤管11與加熱電源相連；還包括布置在電解池1內(nèi)的防腐熱電偶10，防腐熱電偶10外套四氟類耐酸堿的防腐熱電偶10，防腐熱電偶10能夠測(cè)量電解池1內(nèi)的拋光液2的溫度。溫控系統(tǒng)還包括控制器9，控制器9能夠采集防腐熱電偶10的溫度值，并根據(jù)溫度值來(lái)決定加熱電源是否開啟以及電流大小，從而將電解池1內(nèi)的拋光液2保持在設(shè)定的溫度。[0049] 本實(shí)施例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法，包括以下步驟：[0050] (1)以側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶作為陽(yáng)極，以鎳板作為陰極，陰極與陽(yáng)極的間距為10cm，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶穿過陽(yáng)極導(dǎo)輪后經(jīng)由絕緣導(dǎo)輪導(dǎo)入電解池中的拋光液中穿過兩陰極鎳板中間，再經(jīng)由絕緣導(dǎo)輪導(dǎo)入陽(yáng)極導(dǎo)輪后出拋光液；在此過程中設(shè)置直流電源電壓為2

25，電流密度為6mA/cm ，并控制拋光液的溫度為40℃，同時(shí)控制側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中的行進(jìn)速度為0.6m/min，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中電解拋光的時(shí)間為3min。電解拋光所用的拋光液為實(shí)施例4的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液。

[0051] (2)側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶出拋光液后，先進(jìn)入水中進(jìn)行超聲清洗，再進(jìn)入酒精中進(jìn)行除水除油清洗，最后通過風(fēng)干設(shè)備進(jìn)行表面干燥。[0052] 實(shí)施例6[0053] 本實(shí)施例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法與實(shí)施例7的區(qū)別僅在于，電解拋2

光過程中，設(shè)置直流電源電壓為27，電流密度為7mA/cm。

[0054] 實(shí)施例7[0055] 本實(shí)施例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法與實(shí)施例7的區(qū)別僅在于，電解拋2

光過程中，設(shè)置直流電源電壓為27，電流密度為7mA/cm ，控制側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中的行進(jìn)速度為0.8m/min，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中電解拋光的時(shí)間為2.5min。

[0056] 實(shí)施例8[0057] 本實(shí)施例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法與實(shí)施例7的區(qū)別僅在于，電解拋2

光過程中，設(shè)置直流電源電壓為30，電流密度為8mA/cm ，控制側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中的行進(jìn)速度為1.0m/min，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中電解拋光的時(shí)間為2min。

[0058] 對(duì)比例7[0059] 本對(duì)比例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法與實(shí)施例8的區(qū)別僅在于，電解拋光過程中，控制側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中的行進(jìn)速度為2m/min，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中電解拋光的時(shí)間為1min。[0060] 對(duì)比例8[0061] 本對(duì)比例的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法與實(shí)施例8的區(qū)別僅在于，電解拋光過程中，控制側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中的行進(jìn)速度為0.2m/min，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶在拋光液中電解拋光的時(shí)間為10min。[0062] 實(shí)驗(yàn)例1[0063] 為了考察電解拋光所采用的工藝參數(shù)對(duì)側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶拋光的影響，將同一批側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶分別采用實(shí)施例5?8和對(duì)比例7?8的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法進(jìn)行電解拋光處理(電解拋光處理過程所用的拋光液均為實(shí)施例4的用于側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶電解拋光的拋光液)，得到電解拋光處理的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶測(cè)試樣品。再觀察測(cè)試樣品的表面外觀，然后通過表面粗糙度儀測(cè)量測(cè)試樣品的表面粗糙度，測(cè)試結(jié)果如表1所示。[0064] 表1采用實(shí)施例5?8、對(duì)比例7?8的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法進(jìn)行電解拋光處理后的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的表面外觀和表面粗糙度[0065][0066] 注：可忽略表示厚度減薄小于0.002mm，Ra代表在取樣長(zhǎng)度L內(nèi)輪廓偏距絕對(duì)值的算術(shù)平均值；Rz代表在取樣長(zhǎng)度內(nèi)5個(gè)最大的輪廓峰高的平均值與5個(gè)最大的輪廓谷深的平均值之和。[0067] 由表1可知，側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光效果受電流密度、電解時(shí)間等多種因素的影響。實(shí)施例8的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法采用的電流密度較高，造成銅條表面產(chǎn)生了輕微腐蝕，使側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的厚度略有減薄；對(duì)比例7的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法采用的電解拋光時(shí)間較短，拋光效果不理想；對(duì)比例8的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法采用的電解拋光時(shí)間較長(zhǎng)，使銅條發(fā)生了腐蝕。因此，當(dāng)電流密度較大、電解時(shí)間較長(zhǎng)時(shí)，易產(chǎn)生金屬基體的腐蝕。[0068] 實(shí)驗(yàn)例2[0069] 將同一批側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶分別采用實(shí)施例1?4和對(duì)比例1?6的拋光液按照實(shí)施例6的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的電解拋光方法進(jìn)行電解拋光處理，得到電解拋光處理的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶測(cè)試樣品。再觀察測(cè)試樣品的表面外觀，然后通過表面粗糙度儀測(cè)量測(cè)試樣品的表面粗糙度，測(cè)試結(jié)果如表1所示。[0070] 表2采用實(shí)施例1?4、對(duì)比例1?2的拋光液進(jìn)行電解拋光處理后的側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的表面外觀和表面粗糙度[0071][0072] 注：可忽略表示厚度減薄小于0.002mm，Ra代表在取樣長(zhǎng)度L內(nèi)輪廓偏距絕對(duì)值的算術(shù)平均值；Rz代表在取樣長(zhǎng)度內(nèi)5個(gè)最大的輪廓峰高的平均值與5個(gè)最大的輪廓谷深的平均值之和。[0073] 由表2可知，由于未添加氯化鈉或尿素，對(duì)比例1、對(duì)比例2的拋光液中離子濃度較低，造成拋光效果不理想；對(duì)比例3的拋光液中檸檬酸和氨基磺酸的濃度較低，拋光效果不理想；對(duì)比例4的拋光液中檸檬酸和氨基磺酸的濃度較高，拋光效果理想，但會(huì)造成側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶的厚度略有減?。挥捎谙跛?、磷酸的酸性較強(qiáng)，采用對(duì)比例4?5的拋光液進(jìn)行電解拋光時(shí)，會(huì)造成側(cè)復(fù)式銀銅復(fù)合帶中的銅條發(fā)生腐蝕。