位置:中冶有色 >
> 真空冶金技術(shù)
本發(fā)明涉及一種以二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法,屬于非金屬礦深加工技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)近年來(lái),太陽(yáng)能硅電池、半導(dǎo)體工業(yè)和電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,而多晶硅是這些產(chǎn)業(yè)的最基本和主要的功能材料,因此,多晶硅的生產(chǎn)受到了各國(guó)企業(yè)的重視。長(zhǎng)期以來(lái),世界各國(guó)對(duì)多晶硅的制備方法進(jìn)行了諸多研究,典型工藝如下:1,西門(mén)子法該方法由西門(mén)子公司于1955年開(kāi)發(fā),是一種利用h2還原sihcl3在硅芯發(fā)熱體上沉積硅的工藝技術(shù)。西門(mén)子法于1957年開(kāi)始運(yùn)用于工業(yè)生產(chǎn),具有高能耗、低效率、有污染等特點(diǎn)。2,改良西門(mén)子法改良
本實(shí)用新型涉及燒結(jié)爐技術(shù)領(lǐng)域,具體為金屬粉末冶金工藝用真空燒結(jié)爐。背景技術(shù)燒結(jié)爐是指使粉末壓坯通過(guò)燒結(jié)獲得所需的物理、力學(xué)性能以及微觀結(jié)構(gòu)的專(zhuān)用設(shè)備,燒結(jié)爐用于烘干硅片上的漿料、去除漿料中的有機(jī)成分、完成鋁背場(chǎng)及柵線燒結(jié)?,F(xiàn)有的金屬粉末冶金工藝用真空燒結(jié)爐存在著尾氣處理效果不好的缺陷,在燒結(jié)爐燒結(jié)的過(guò)程中,會(huì)產(chǎn)生大量的有害氣體,這些氣體如果不能夠進(jìn)行有效的處理,排放到大氣中,會(huì)對(duì)空氣造成嚴(yán)重的污染,為此我們提出一種金屬粉末冶金工藝用真空燒結(jié)爐來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供金
本發(fā)明涉及冶金設(shè)備中真空精煉爐布置領(lǐng)域,尤其涉及一種多工位VD/VOD真空精煉爐裝置。背景技術(shù)目前,雙工位VD或VOD真空精煉爐的布置形式有以下兩種,實(shí)現(xiàn)真空罐蓋和真空罐脫離與扣合。第一種:一個(gè)真空罐蓋在兩個(gè)固定真空罐之間可移動(dòng)且升降;第二種:兩個(gè)真空罐蓋分別移動(dòng)到各自相應(yīng)的固定真空罐上方且升降。公知的,在真空罐蓋待機(jī)位和真空罐處理位之間必須留有足夠的空間位置,作為避免干涉行車(chē)調(diào)運(yùn)真空罐內(nèi)鋼包和設(shè)備檢修之用。因此,這兩種布置形式需要操作平臺(tái)長(zhǎng)、占地面積大,不用適于廠房?jī)?nèi)設(shè)備多,物料雜,預(yù)留空間小
本實(shí)用新型涉及一種加熱器,尤其涉及一種真空冶金爐用平板式石墨發(fā)熱體,用于真空蒸餾冶金爐進(jìn)行加熱的加熱器結(jié)構(gòu)技術(shù)。背景技術(shù)石墨及其制品具有電阻系數(shù)小、熱膨脹小、高強(qiáng)耐酸性、抗腐蝕性和耐高溫(3000℃)及耐低溫(-204℃)等優(yōu)良性能,被廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、高能物理、電氣、化工、紡織、國(guó)防等領(lǐng)域。真空冶金領(lǐng)域常采用石墨材料制作發(fā)熱體,以獲得高溫?zé)釄?chǎng)。公知的真空爐石墨發(fā)熱體主要有整體加工成型,多部件拼接及組合形成,發(fā)熱體形狀以圓筒籠狀形居多。拼接式及組合式圓筒籠狀形發(fā)熱體連接點(diǎn)過(guò)多,連接件容易受熱
本發(fā)明涉及一種氧化鎵真空碳熱還原制備金屬鎵的方法,屬于稀散金屬真空冶金技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種金屬鎵的清潔、高效制備方法。背景技術(shù)鎵是7類(lèi)主要稀散元素之一,在地殼中的含量為5×10-4%~1.5×10-3%,其熔點(diǎn)僅為29.78℃,被稱(chēng)為放在人的手中即可熔化的金屬,熔化時(shí)為銀白色液體,過(guò)冷至0℃時(shí)也不固化。鎵屬于兩性物質(zhì),溶于強(qiáng)酸和強(qiáng)堿。鎵在室溫下較穩(wěn)定,但在高于1000℃氧或空氣中會(huì)氧化,且雜質(zhì)越多越易氧化。常溫下,鎵在干燥空氣中比較穩(wěn)定,因?yàn)樯傻难趸锉∧?huì)阻止其繼續(xù)氧化,而在潮濕空氣中會(huì)被氧
本發(fā)明屬于真空冶金設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種連續(xù)式冷坩堝感應(yīng)霧化制備鈦粉設(shè)備。背景技術(shù)感應(yīng)熔煉技術(shù)是一種先進(jìn)的熔煉手段,它去除了熔煉過(guò)程中氣氛和加熱源對(duì)爐料的污染。但一般的真空感應(yīng)熔煉技術(shù)不能防止?fàn)t料與坩堝之間的反應(yīng),尤其在熔煉活潑金屬或高純度金屬時(shí),這種影響非常嚴(yán)重。上世紀(jì)末出現(xiàn)了一種更為先進(jìn)的冷坩堝真空感應(yīng)熔煉技術(shù)。它是一種利用水冷坩堝(主要為純銅,也有用其它合金)來(lái)進(jìn)行真空感應(yīng)熔煉的方法。此種方法可以完全排除坩堝對(duì)爐料的污染。冷坩堝感應(yīng)熔煉裝置主要有三種澆鑄方式:傾倒鑄造(tilt-tappi
本發(fā)明涉及電子束熔煉技術(shù)的設(shè)備,尤指一種新型真空電子束熔煉爐。背景技術(shù)高純金屬、合金材料是現(xiàn)代工業(yè)制造及自動(dòng)化生產(chǎn)中的不可或缺的元素,對(duì)其的需求也越來(lái)越大,因此對(duì)高純金屬合金材料(特別是難熔金屬)的獲取方法研究也越來(lái)越受關(guān)注。真空電子束熔煉是一種有效的提純方法,特別是對(duì)于在冶煉溫度下具有較低蒸汽壓的金屬和合金更有效。電子束熔煉爐是一種特殊的真空冶金設(shè)備。利用電子槍可將幾十至數(shù)百KW的高能電子束聚集并產(chǎn)生高溫,能量密度大,當(dāng)高能電子束聚焦在鎢、鉭、鈮、鋯等難熔金屬物料上時(shí),使其熔化,并剔取雜質(zhì),達(dá)
本發(fā)明屬于真空冶金提純技術(shù),具體涉及一種真空冶煉爐及一次連續(xù)還原蒸餾制備高純金屬鐿的方法。背景技術(shù)真空冶煉爐通常用來(lái)冶煉合金鋼,一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)等組成。密封爐殼用碳鋼或不銹鋼焊成,可拆卸部件的接合面用真空密封材料密封;為防止?fàn)t殼受熱后變形和密封材料受熱變質(zhì),爐殼一般用水冷或氣冷降溫。爐膛位于密封爐殼內(nèi),根據(jù)爐子用途,爐膛內(nèi)部裝有不同類(lèi)型的加熱元件,如電阻、感應(yīng)線圈、電極和電子槍等。爐膛內(nèi)裝有坩堝,有的還裝有自動(dòng)澆注裝置和裝卸料的機(jī)械手等。真空系統(tǒng)主要由
一種rh爐真空槽冶金裝置及方法技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明屬于鋼鐵冶金煉鋼領(lǐng)域,具體涉及一種rh爐真空槽冶金裝置及方法。背景技術(shù).目前,rh真空爐工作原理:鋼水處理前,先將浸漬管浸入待處理的鋼包鋼水中,當(dāng)真空槽抽真空時(shí),鋼水表面的大氣壓力迫使鋼水從浸漬管流入真空槽內(nèi)(真空槽內(nèi)大約.mbar時(shí)可使鋼水上升.m高度)。與真空槽連通的兩個(gè)浸漬管,一個(gè)為上升管,一個(gè)為下降管。由于上升管不斷向鋼液吹入氬氣,相對(duì)沒(méi)有吹氬的下降管產(chǎn)生了一個(gè)較高的靜壓差,使鋼水從上升管進(jìn)入并通過(guò)真空槽下部流向下降管,如此不
本發(fā)明涉及金屬材料激光成型技術(shù),尤其涉及一種alcocrfeni2.1共晶高熵合金及其激光選區(qū)增材制造制備方法。背景技術(shù)高熵合金作為一種突破傳統(tǒng)合金設(shè)計(jì)理念的、由多種主元組成的新型合金,近年來(lái)引起研究學(xué)者的廣泛關(guān)注。高熵合金因?yàn)橛啥喾N元素以等原子比例或近等原子比例組成,使得高熵合金具有熱力學(xué)上的高熵和晶格畸變效應(yīng)、動(dòng)力學(xué)上的遲滯擴(kuò)散和“雞尾酒”效應(yīng),這種特殊的效應(yīng)使高熵合金具備一系列獨(dú)特的性能。fcc結(jié)構(gòu)的高熵合金表現(xiàn)出很好的塑性但是強(qiáng)度低,bcc結(jié)構(gòu)的高熵合金強(qiáng)度高但是塑性差,這限制了合金在實(shí)
.本發(fā)明屬于鋰離子電池負(fù)極材料技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種儲(chǔ)能用長(zhǎng)壽命人造石墨負(fù)極材料及其制備方法與應(yīng)用。背景技術(shù).作為儲(chǔ)能設(shè)備的鋰離子二次電池(libs)因其具有高的能量密度、長(zhǎng)的循環(huán)壽命、穩(wěn)定的充放電平臺(tái)、寬的工作溫度區(qū)間和環(huán)境友好性等優(yōu)點(diǎn),成為儲(chǔ)能領(lǐng)域的研究重點(diǎn)。國(guó)內(nèi)用于制作鋰離子電池負(fù)極材料的碳材料主要分兩類(lèi),分別是人造石墨和天然石墨,天然石墨具有低的嵌入電位,優(yōu)良的嵌入和脫嵌性能,是良好的鋰離子電池負(fù)極材料。但是其缺點(diǎn)在于石墨層間以較弱的分子間作用力,即范德華力結(jié)合,充電時(shí)隨著溶劑化鋰離
本發(fā)明涉及一種復(fù)合材料,特別涉及一種高磁導(dǎo)率的Fe3O4修飾石墨烯/玻璃纖維復(fù)合材料及其制備方法。背景技術(shù)隨著科學(xué)技術(shù)和電子工業(yè)的發(fā)展,各種電子設(shè)備的應(yīng)用日益增多,形成電磁污染。電磁波輻射不僅會(huì)損害人體健康,干擾電子儀器的正常工作,還會(huì)造成機(jī)密信息的泄露,因此,研發(fā)高性能電磁屏蔽材料,減少電磁污染對(duì)為我們的社會(huì)生活和國(guó)防建設(shè)都具有重要意義。石墨烯是一種由碳原子以sp2雜化方式形成的蜂窩狀平面薄膜,是一種只有一個(gè)原子層厚度的準(zhǔn)二維材料,具有良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能及力學(xué)性能,其電子遷移率可達(dá)到2×10
一種cmt增材制造鈦合金材料的氣體保護(hù)裝置技術(shù)領(lǐng)域.本實(shí)用新型屬于焊接設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種cmt增材制造鈦合金材料的氣體保護(hù)裝置。背景技術(shù).cmt技術(shù)是一種無(wú)焊渣飛濺的新型焊接工藝技術(shù),通過(guò)數(shù)字控制的方式監(jiān)控短電弧和焊絲的換向送絲。焊槍附近的氣體保護(hù)罩的作用是焊接時(shí)將空氣隔離在焊區(qū)之外,保護(hù)熔池不被氧化。利用惰性氣體對(duì)金屬焊材的保護(hù),焊材在被焊基材上融化成液態(tài)形成熔池,使被焊金屬和焊材冶金結(jié)合,因此合理的設(shè)計(jì)保護(hù)罩對(duì)于保障增材制造質(zhì)量有重要意義。.鈦合金在增材制造過(guò)程中液態(tài)熔滴和熔池
高純ta鈦材獲得超細(xì)晶粒的方法技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明涉及鈦及鈦合金制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高純ta鈦材獲得超細(xì)晶粒的方法。背景技術(shù).工業(yè)純鈦合金ta屬于α型鈦合金,具有高強(qiáng)度,低密度、優(yōu)良的耐腐蝕性和韌性,塑性很好,易于加工成型和焊接等優(yōu)點(diǎn)。ta鈦合金廣泛用于機(jī)械設(shè)備換熱器,高爾夫球、醫(yī)療器械等方面。另外,由于鈦及鈦合金的密度較小,制造出來(lái)的汽車(chē)部件具有更小的質(zhì)量,目前廣泛使用在汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)的制造上,它不光可以延長(zhǎng)產(chǎn)品使用的年限和提高燃燒效率,同時(shí)還可減少噪音。.鈦及其合金組織的微細(xì)化,
本發(fā)明涉及高溫合金技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種含W的高強(qiáng)度鑄造Ni3Al基高溫合金及其制備方法。背景技術(shù)目前廣泛使用于煤、天然氣和石油轉(zhuǎn)化利用系統(tǒng)和先進(jìn)熱力發(fā)動(dòng)機(jī)中的結(jié)構(gòu)材料,如奧氏體不銹鋼和高溫合金,通常無(wú)法同時(shí)滿(mǎn)足服役條件所需求的強(qiáng)度、韌性和耐蝕性。涂層材料如FeCrAl雖然擁有優(yōu)良的耐蝕性,但其高溫強(qiáng)度較差。因此迫切需要發(fā)展新型合金以滿(mǎn)足高溫結(jié)構(gòu)部件的苛刻服役條件,即具有良好高溫機(jī)械性能和優(yōu)良耐蝕性的合金,而Ni3Al基合金恰好符合上述要求。金屬間化合物Ni3Al具有其獨(dú)特的高溫性能,十分適合應(yīng)
本實(shí)用新型涉及離子束拋光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高精度大口徑平面離子束拋光機(jī)。背景技術(shù)離子束拋光技術(shù)是利用離子濺射原理,通過(guò)在真空狀態(tài)下離子源引束產(chǎn)生等離子體能量束流,束流轟擊工件表面產(chǎn)生原子級(jí)別的材料去除從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的高精度加工。傳統(tǒng)的離子束拋光機(jī)在對(duì)工件的不同面進(jìn)行拋光采用人工手動(dòng)翻轉(zhuǎn),這種方式打斷了拋光作業(yè)節(jié)奏,而且費(fèi)時(shí)費(fèi)力,降低拋光效率,且增大了作業(yè)風(fēng)險(xiǎn)。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中離子束拋光機(jī)不便同時(shí)對(duì)工件的多個(gè)不同的表面進(jìn)行拋光的問(wèn)題,而提出的一種高精度大口徑
本發(fā)明涉及的澆注技術(shù)領(lǐng)域,具體的說(shuō),是一種高溫合金定向凝固的澆注結(jié)構(gòu)和澆注方法。背景技術(shù)目前世界上廣泛應(yīng)用的高溫合金定向凝固鑄件制備方法是bridgman法和lmc法。將制備好的陶瓷型殼放置在真空精密鑄造爐的水冷銅盤(pán)上,待陶瓷型殼加熱至預(yù)定溫度后,實(shí)施澆注,然后按照一定速度將注入合金液的陶瓷型殼從真空精密鑄造爐的熱區(qū)(陶瓷型殼加熱器)抽拉至冷區(qū)或金屬冷卻液中,使得合金液形成定向凝固,從而獲得定向凝固鑄件。由于通常陶瓷型殼的預(yù)熱溫度及合金液的澆注溫度遠(yuǎn)高于合金的液相線,澆注后合金液的流動(dòng)性能很好。
本實(shí)用新型涉及離子束拋光機(jī)領(lǐng)域,具體涉及具有穩(wěn)定工作狀態(tài)的離子束拋光機(jī)。背景技術(shù)所謂離子束拋光,就是把惰性氣體,如氬、氮等放在密閉空間中,用高頻電磁振蕩或放電等方法對(duì)陰極電流加熱,使之電離成為正離子,再用5千至10萬(wàn)伏高電壓對(duì)這些正離子加速,使它們具有一定的能量。利用電子透鏡聚焦,將它們聚焦成一細(xì)束,形成高能量密度離子流,在計(jì)算機(jī)的控制下轟擊放在真空室經(jīng)過(guò)精磨的工件表面,從其表面把工件物質(zhì)一個(gè)原子一個(gè)原子地濺射掉。用這種方法實(shí)現(xiàn)對(duì)工件表面進(jìn)行深度從100埃到10微米左右的精密加工?,F(xiàn)有的小型離子
本發(fā)明屬于納米材料領(lǐng)域,更具體地,涉及一種納米多孔金材料及制備方法。背景技術(shù)納米多孔金屬是指孔徑尺寸在納米范圍內(nèi)的多孔金屬材料,由連續(xù)韌帶和孔組成,形成三維雙連續(xù)的多孔結(jié)構(gòu)。納米多孔金屬具有高孔隙率、具有大的內(nèi)表面積的納米孔,是一種兼具功能和結(jié)構(gòu)雙重屬性的新型功能材料,既有高導(dǎo)電性、可焊性、高導(dǎo)熱性、抗腐蝕、抗疲勞、延展性以及結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高、耐高溫等金屬材料的優(yōu)異性能,又具有納米材料的表面效應(yīng)和尺寸效應(yīng)。納米多孔金屬材料可廣泛應(yīng)用于生物、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、催化、傳感器及生物分子的隔離和
本發(fā)明涉及鑄造技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種葉輪鑄造工藝及葉輪。背景技術(shù)離心式壓縮機(jī)或離心泵用來(lái)為各種流體流動(dòng)提供加壓。這種壓縮機(jī)或離心泵包含葉輪,當(dāng)葉輪旋轉(zhuǎn)時(shí),流體軸向方向進(jìn)入,然后加速進(jìn)入周向和徑向方向,高流速流體進(jìn)入擴(kuò)壓器,經(jīng)轉(zhuǎn)換速度后輸出高壓流體,對(duì)此類(lèi)壓縮機(jī)或離心泵,所使用的葉輪一般為合金精密鑄造大型薄壁葉輪。普通重力鑄造方式鑄造葉輪時(shí)容易出現(xiàn)充注不足等缺陷,受到型殼結(jié)構(gòu)限制,型殼自身承受壓力有限,葉輪鑄件容易產(chǎn)生氣孔、疏松等問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種葉輪鑄造工藝及葉輪,其能
一種高效太陽(yáng)能電池用大產(chǎn)能爐管式icp-cvd裝置技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備,尤其涉及一種高效太陽(yáng)能電池用大產(chǎn)能爐管式icp-cvd裝置。背景技術(shù).目前高效太陽(yáng)能電池主要膜系材料為單質(zhì)硅,晶體結(jié)構(gòu)為非晶或微晶狀態(tài)。而且希望的是更多的微晶狀態(tài)的單質(zhì)硅材料。目前主要的生長(zhǎng)方式是采用平行平板式pecvd設(shè)備(ccp-cvd),在一定真空度和溫度下,使用硅烷氣體分解得到,此方式由于產(chǎn)生的等離子體密度低,生成的單質(zhì)硅薄膜主要是非晶狀態(tài)且氫含量偏高。較好的方法是采用高密度等離子體放電技術(shù)比如
.本發(fā)明屬于復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種鋁合金復(fù)合材料,具體涉及一種預(yù)埋釬劑復(fù)合板及其制備方法和用途。背景技術(shù).鋁合金復(fù)合釬焊材料被廣泛的應(yīng)用于汽車(chē)熱交換器中,如汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻系統(tǒng)的中冷器、散熱器,和空調(diào)系統(tǒng)的暖風(fēng)、冷凝器等。各類(lèi)熱交換器產(chǎn)品一般都由多個(gè)零部件組成,如主板、管料和翅片等,各零部件之間通過(guò)高溫釬焊最后形成金屬接頭連接。.鋁合金復(fù)合板通常包含芯層和釬料層。釬料層在高溫下會(huì)優(yōu)先融化形成焊接接頭,從而實(shí)現(xiàn)各零部件的金屬連接。然而,由于鋁合金表面有一層致密的氧化膜會(huì)阻礙釬料層的融化和流
.本發(fā)明涉及靶材加工領(lǐng)域,具體涉及一種靶材結(jié)構(gòu)及其制作方法。背景技術(shù).濺射鍍膜靶材在半導(dǎo)體集成電路(vlsi)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用,鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。.半導(dǎo)體工業(yè)中,靶材主要分為圓柱靶材和平面靶材,平面靶材多采用磁控濺射技術(shù)沉積;磁控濺射即pvd(physicalvapordeposition:物理氣相沉積)是指在真空條件下,采用中電壓、大電流的電弧放電技術(shù)
.本發(fā)明屬于金屬及其熱處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高鉻高碳鑄鋼及其多階段熱處理方法。背景技術(shù).高鉻高碳鑄鋼具有許多吸引人的性能,如高強(qiáng)度、高硬度、抗合金元素溶解和碳化物析出引起的變形。常規(guī)成分采用常規(guī)的冶金路線加工這種鋼特別困難。主要的挑戰(zhàn)是,傳統(tǒng)的靜態(tài)鑄錠鑄造相對(duì)緩慢的冷卻過(guò)程會(huì)形成粗大的網(wǎng)狀共晶碳化物,這些連續(xù)的含鉻的網(wǎng)狀碳化物結(jié)構(gòu)在大尺寸鑄錠的熱變形過(guò)程中會(huì)引起明顯的裂紋。雖然高鉻高碳鋼也進(jìn)行常規(guī)熱處理,采用簡(jiǎn)單的淬火-回火處理,可以獲得較高的硬度,但網(wǎng)狀碳化物依然不能被消除,影響后續(xù)的
本發(fā)明屬于廢棄物環(huán)保處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種水淬和渣水分離系統(tǒng)。背景技術(shù)國(guó)內(nèi)的高爐煉鐵爐渣水淬處理有機(jī)械法和底濾法兩種方式。機(jī)械法存在過(guò)濾不干凈,系統(tǒng)故障率高、檢修維護(hù)工作量大,運(yùn)行成本高,一次性投資高等缺點(diǎn)。而現(xiàn)有的底濾法水渣存在以下缺點(diǎn):①熔渣水淬溝渠、過(guò)濾池上方蒸汽彌漫,對(duì)環(huán)境污染大;②濾層板結(jié)嚴(yán)重,更換難度大,影響高爐的生產(chǎn)節(jié)奏;③需要人工抓渣,自動(dòng)化程度低;④池內(nèi)液位檢測(cè)不準(zhǔn),難以實(shí)現(xiàn)連鎖控制,造成設(shè)備故障,系統(tǒng)癱瘓;⑤濾層厚度大,需要大量鵝卵石,建設(shè)及生產(chǎn)維護(hù)造成資源浪費(fèi)。發(fā)明內(nèi)容
.本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜,具體涉及一種蓋板硬質(zhì)涂層鍍膜工藝方法,是一種超現(xiàn)有光學(xué)薄膜,實(shí)現(xiàn)超強(qiáng)力學(xué)特性(鉛筆硬度>h,莫氏硬度≥h,鋼絲絨摩擦次后水滴角>°),無(wú)膜厚限制和穩(wěn)定的可靠性測(cè)試的鍍膜工藝方法。背景技術(shù).光學(xué)薄膜的應(yīng)用無(wú)處不在,從眼鏡鍍膜到手機(jī)、電腦、電視的液晶顯示再到led照明等等,它充斥著我們生活的方方面面,并使我們的生活更加豐富多彩。.查閱各種文獻(xiàn)資料,結(jié)合國(guó)內(nèi)外相關(guān)專(zhuān)利資料,磁控機(jī)鍍制功能性涂層sin/sio循環(huán)結(jié)構(gòu)膜層硬度最高是h,力學(xué)特性存在不穩(wěn)
本申請(qǐng)要求于2015年7月31日提交的申請(qǐng)?zhí)?2/199593的權(quán)益。申請(qǐng)?zhí)?2/199593的公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用并入本文。技術(shù)領(lǐng)域本文描述了用于使用環(huán)二硅氮烷前體沉積保形的、化學(xué)計(jì)量或非化學(xué)計(jì)量的氮化硅膜的方法和組合物。更特別地,本文描述了使用環(huán)二硅氮烷前體的沉積工藝,例如但不限于等離子體增強(qiáng)原子層沉積(“PEALD”)、等離子體增強(qiáng)循環(huán)化學(xué)氣相沉積(“PECCVD”),以及包含環(huán)二硅氮烷前體的用于沉積氮化硅膜的組合物。背景技術(shù)低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)工藝是半導(dǎo)體工業(yè)使用的用于氮化硅膜沉積
.本實(shí)用新型涉及熱壓燒結(jié)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種熱壓燒結(jié)機(jī)。背景技術(shù).熱壓燒結(jié)是指將干燥粉料充填入模型內(nèi),再?gòu)膯屋S方向邊加壓邊加熱,使成型和燒結(jié)同時(shí)完成的一種燒結(jié)方法,一般需要熱壓燒結(jié)機(jī)來(lái)實(shí)現(xiàn)。.在中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)為cnu的專(zhuān)利文件中公開(kāi)了一種金剛石制品真空熱壓燒結(jié)機(jī),通過(guò)限位柱、限位槽、彈性柱和壓簧等的配合,在移動(dòng)該設(shè)備或者該設(shè)備運(yùn)行而發(fā)生振動(dòng)時(shí),連接于連接塊的壓簧和彈性柱可隨振動(dòng)而伸縮,進(jìn)而緩沖該設(shè)備產(chǎn)生的振動(dòng),避免了零部件的松動(dòng)。.上述專(zhuān)利中雖然可以在設(shè)備工作時(shí)減少震
本發(fā)明屬于生物醫(yī)用材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種nbtatizr雙相等原子比高熵合金及其制備方法。背景技術(shù)生物醫(yī)用材料是應(yīng)用于疾病的診斷、治療、康復(fù)和預(yù)防,以及替換生物體組織、器官、增進(jìn)或恢復(fù)其功能的材料。生物材料的特征包括生物功能性和生物相容性。生物醫(yī)用材料是保障人類(lèi)健康的必需品,直接關(guān)乎人類(lèi)的健康和生命安全。隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展,生活水平的不斷提高,以及人口老齡化、新技術(shù)的注入,全球生物醫(yī)用材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷提高。2016年,全球生物醫(yī)用材料市場(chǎng)規(guī)模為1709億美元,2020年突破30
.本發(fā)明涉及鈦及鈦合金的加工、力學(xué)性能和氫脆敏感性領(lǐng)域,具體為一種高強(qiáng)度抗氫脆純鈦及其制備方法,適用于在海洋環(huán)境以及人體植入環(huán)境等氫含量較高的苛刻環(huán)境中服役的純鈦結(jié)構(gòu)材料。背景技術(shù).鈦及鈦合金具有優(yōu)良的耐蝕性、高比強(qiáng)度和較好的生物相容性等綜合性能,在航天、海洋、醫(yī)學(xué)領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。但是在實(shí)際的工程應(yīng)用中往往存在兩類(lèi)需要解決的問(wèn)題,一是純鈦的強(qiáng)度不夠(mpa左右),難以滿(mǎn)足日漸提高的工程服役要求;二是鈦及鈦合金往往具有較強(qiáng)的氫脆敏感性,這是因?yàn)槠鋵儆诘湫蜌浠镄纬审w系,在海洋或潮濕環(huán)境
中冶有色為您提供最新的有色金屬真空冶金技術(shù)理論與應(yīng)用信息,涵蓋發(fā)明專(zhuān)利、權(quán)利要求、說(shuō)明書(shū)、技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、實(shí)用新型內(nèi)容及具體實(shí)施方式等有色技術(shù)內(nèi)容。打造最具專(zhuān)業(yè)性的有色金屬技術(shù)理論與應(yīng)用平臺(tái)!