對于光刻掩模布局驗(yàn)證,針對一組設(shè)計意圖中的每個設(shè)計意圖通過標(biāo)識在制造設(shè)計意圖時預(yù)期出現(xiàn)的一組失效并且記錄該組失效中的每個失效的失效模式和位置來收集訓(xùn)練數(shù)據(jù)。接下來,訓(xùn)練數(shù)據(jù)被用于訓(xùn)練機(jī)器學(xué)習(xí)模型、例如人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),以預(yù)測失效的失效模式和位置。然后,使用經(jīng)訓(xùn)練的機(jī)器學(xué)習(xí)模型來預(yù)測針對給定設(shè)計意圖的一組失效。接下來,對于每個所預(yù)測的失效,可以基于失效的失效模式選擇掩模版增強(qiáng)技術(shù)(RET)方案,并且所選擇的RET方案可以被應(yīng)用于失效的位置周圍的區(qū)域。
聲明:
“基于由人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)預(yù)測的失效模式應(yīng)用掩模版增強(qiáng)技術(shù)方案” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)