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測量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法

1141 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:58:31

本發(fā)明公開了一種測量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法。該方法基于激光誘導擊穿光譜技術結合激光誘導熒光技術測量真空離子鍍膜技術及等離子體噴涂鍍膜技術的沉積膜厚膜厚與均勻性。該發(fā)明是一種微損接近無損的檢測方法，能夠實現(xiàn)對鍍膜樣品膜厚10nm量級測量，鍍膜表面均勻性μm量級分辨測量。尤其是該方法還是一種可以實時、原位、在線、無接觸與主動式的測量方法，且不會對鍍膜過程有干擾，易于操作，實時分析。本發(fā)明主要用于真空離子鍍，比如真空離子鍍物理、化學氣相沉積、等離子體噴涂等領域，不排除應用于其它的、具有相近技術特征的薄膜或者涂層沉積技術領域。

聲明：

“測量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)