本發(fā)明公開了一種測(cè)量光刻膠掩模槽形結(jié)構(gòu)參數(shù)的方法,其特征在于:采用TE/TM線偏振光為入射光,入射角為被測(cè)掩模的閃耀角,分別測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)反射片的反射光的光譜分布D0(λ);被測(cè)掩模的反射衍射零級(jí)復(fù)色光的光譜分布D(λ);采用比較法,計(jì)算出介質(zhì)膜光柵掩模實(shí)際的反射衍射零級(jí)的光譜分布Rg(λ),對(duì)其進(jìn)行光譜反演,得到掩模的槽形參數(shù):光刻膠的剩余厚度、槽深和占寬比。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對(duì)于面積、重量均較大的待測(cè)掩模的槽形參數(shù)的無(wú)損檢測(cè);且可以避免測(cè)量系統(tǒng)的誤差,對(duì)光譜儀測(cè)量系統(tǒng)以及光源沒有特別要求,測(cè)量方法簡(jiǎn)單易行。
聲明:
“測(cè)量光刻膠掩模槽形結(jié)構(gòu)參數(shù)的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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