本發(fā)明公開了一種SD?OCT圖像的青瓷釉層厚度測量方法。通過測量樣本青瓷釉層的厚度,建立不同類型青瓷釉層折射率的數(shù)據(jù)庫;采集青瓷釉層的SD?OCT圖像;通過對青瓷釉層的SD?OCT圖像濾波和二值化,定位釉層的上邊界;再邊緣檢測設計結構元素,使用結構元素對邊緣檢測后的圖像進行閉運算,提取青瓷釉層下邊界;釉層上下邊界像素的差值乘以每個像素的物理深度計算青瓷釉層的厚度。本發(fā)明方法實現(xiàn)了青瓷釉層厚度的無損實時測量,測量精度達到微米級,精確度高,根據(jù)建立的青瓷釉層折射率數(shù)據(jù)庫,能夠測量各種青瓷的釉層厚度,具有較強的適應性,提高了測量的效率。
聲明:
“SD-OCT圖像的青瓷釉層厚度測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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