本發(fā)明涉及一種光學(xué)無損探測單納米顆粒表界面轉(zhuǎn)化的方法。該方法利用單納米顆粒表界面轉(zhuǎn)化光學(xué)成像系統(tǒng)對單個納米顆粒的表界面轉(zhuǎn)化過程進行無標(biāo)記識別,通過計算目標(biāo)顆粒的本征參數(shù)ψ——這一特征量的變化,分析顆粒的表界面轉(zhuǎn)化過程,克服目前現(xiàn)有分析方法難以對納米顆粒的表界面轉(zhuǎn)化過程進行原位實時精準(zhǔn)分析與識別的難題,該方法具有非侵入性、高通量、抗干擾、研究對象寬泛等優(yōu)點,可用于單粒子水平下的納米顆粒表界面轉(zhuǎn)化及構(gòu)效關(guān)系等研究,拓展了納米科學(xué)成像分析的應(yīng)用。
聲明:
“光學(xué)無損探測單納米顆粒表界面轉(zhuǎn)化的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)