本發(fā)明公開了一種利用能譜分析無損檢測試樣膜厚的方法,利用不同成分的膜層在加速電子轟擊下,會激發(fā)不同特征X射線的原理,對標(biāo)塊進行加速電子轟擊,制定出膜層特征元素與膜厚之間的對應(yīng)關(guān)系標(biāo)準(zhǔn)曲線,然后分析對待測試樣進行加速電子轟擊后得出的X射線的強度與頻率,得到元素的含量,對比標(biāo)準(zhǔn)曲線,計算出膜層厚度。本發(fā)明僅采用常見的掃描電子顯微鏡和能譜儀,無需額外的檢測特制輔助設(shè)備和配件投入,成本低且操作簡單,適用于納米及微米范圍內(nèi),無機非金屬、高分子和金屬各類膜層,同時適用于單層、雙層和三層復(fù)合膜層的膜厚檢測,適用范圍廣,且不會對樣品造成損壞。
聲明:
“利用能譜分析無損檢測試樣膜厚的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)