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衍射裝置及無損檢測工件內(nèi)部晶體取向均勻性的方法

1041   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:45
本發(fā)明公開了一種衍射裝置和無損檢測工件內(nèi)部晶體取向均勻性的方法,裝置包括X射線照射系統(tǒng),其對被測樣品的測量部位照射X射線;X射線探測系統(tǒng),其同時對X射線由被測樣品的多個部位衍射而形成的多條衍射X射線進行探測,來測量被測樣品的X射線衍射強度分布;探測的X射線為短波長特征X射線;X射線探測系統(tǒng)為陣列探測系統(tǒng);方法步驟包括:選短波長特征X射線,對待測樣品進行織構(gòu)分析,確定待測衍射矢量Q;獲取被測樣品相應(yīng)部位的X射線衍射強度。本發(fā)明可以快速無損地檢測厘米級厚度工件在其整個厚度方向的內(nèi)部晶體取向均勻性,可以在生產(chǎn)線上實現(xiàn)厘米級厚度工件在其運動軌跡的整個厚度方向的內(nèi)部晶體取向均勻性的在線檢測與表征。
聲明:
“衍射裝置及無損檢測工件內(nèi)部晶體取向均勻性的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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