一種雙盤(pán)光學(xué)回音壁模式鈮酸鋰微腔,該微腔自上而下依次是第一鈮酸鋰圓盤(pán)、二氧化硅薄盤(pán)、第二鈮酸鋰圓盤(pán)、二氧化硅支柱和鈮酸鋰基底,及其制備方法,包括制備五層薄膜、加工柱狀結(jié)構(gòu)和化學(xué)腐蝕步驟。本發(fā)明雙盤(pán)光學(xué)回音壁模式鈮酸鋰微腔具有極高的表面光潔度、小的模式體積與高的品質(zhì)因子(實(shí)測(cè)10
5,理論值可達(dá)10
7)。
聲明:
“雙盤(pán)光學(xué)回音壁模式鈮酸鋰微腔及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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